Определение

Керамический ICP-держатель изготавливается из высокочистого карбида кремния или оксида алюминия. Используется в процессах ICP-травления при производстве полупроводниковых и светодиодных чипов. Обеспечивает стабильную поддержку пластин, предотвращает загрязнение и деформацию. Может заменять графитовые держатели и является ключевым комплектующим для оборудования ICP-травления.

Технические характеристики

Подходит для пластин диаметром 100–600 мм. Допуск: ±0,1 мм. Плоскостность: ≤ 0,2 мкм. Толщина: 8–15 мм. Плотность: ≥ 3,02 г/см³. Оснащается изготавливаемыми на заказ позиционирующими пазами, ограничительными отверстиями и зажимными элементами. Совместим с различными типами установок ICP-травления.

Ключевые характеристики

Термостойкость до 1400 °C. Прочность на изгиб: ≥ 280 МПа. Твердость по шкале Мооса: 9,5. Устойчивость к воздействию и коррозии под действием плазмы. Низкое тепловое расширение, устойчивость к деформации. Срок службы в 3–5 раз превышает срок службы графитовых держателей. На некоторые модели может наноситься антиплазменное покрытие.

Области применения

Используется при ICP-травлении в производстве полупроводниковых и светодиодных чипов. Обеспечивает точность травления, снижает частоту замены держателей и потери пластин, уменьшает затраты, повышает эффективность и увеличивает выход годных чипов.